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Edmund Optics® 推出极紫外(EUV)平面反射镜
材料来源:LFWC           录入时间:2019/1/21 22:09:56

2018年10月4日,巴林顿,新泽西州– 作为光学元件的主要供应商,爱特蒙特光学(Edmund Optics® )(以下简称“EO”)推出极紫外(EUV) 平面反射镜.。这些经过精密抛光的多层反射镜在其设计波长和入射角(AOI)下可实现最大反射率。它们专为极紫外线光束转向和谐波分离应用而设计。

13.5nm 下可实现的最大反射

极紫外(EUV) 平面反射镜提供5°和45°AOI 版本,在13.5 nm 下可获得近乎理想的反射率,是EUV光谱中拥有最高反射率的波长。RoHS 兼容型反射镜提供一种沉积在超抛光单晶硅基片上的镀膜,具有优越的热稳定性。这些EUV 平面镜的表面粗糙度小于3Å RMS,可大大降低入射光的散射。多层金属/半导体镀膜包括具有硅表层的钼/硅多层。45°AOI 平面镜在632.8 nm 和6.35 mm 厚度下的表面平整度为λ/10,非常适合转向S 偏振光束,5°AOI 平面镜则非常适用于非偏振光束。

适用于CDI 和材料科学研究

极紫外(EUV) 平面反射镜用于相干衍射成像(CDI) 和材料科学研究等新兴应用。CDI 是一种非接触式成像技术,可以达到接近10nm 的分辨率,常用来分析极小的纳米结构。反射镜也被用作高谐波生成(HHG) 光束的谐波选择器。极紫外(EUV) 平面反射镜有现货,可立即交付。

 

关于爱特蒙特光学

作为光学,成像和光子技术的知名供应商,爱特蒙特光学(EO) 在全球生命科学、生物医学、半导体,研发领域和安全安保市场享有盛誉. 爱特蒙特光学(Edmund Optics® )不仅专注于设计与制造各种多元件镜头、镜头涂层,成像系统和光器设备,同时支持量产和定制产品OEM 应用。爱特蒙特光学具有先进生产能力,结合其遍布于全球的业务网络,目前已成为全球最大的现货光学元件供应商。 如需订购或有任何疑问,中国区可拨打+86-755-84355459, 29675435与我们的销售部门联系。您也可以登录我们的网站www.edmundoptics.cn或查看我们的目录来了解具体产品。

 

 


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